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弹性发射抛光
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弹性发射加工 百度百科
弹性发射加工(elastic emission machining,EEM)采用浸液工作方式，利用在工件表面高速旋转的聚氨酯小球带动抛光液中粒度为几十纳米的磨料，以尽可能小的人射角冲击工件表面，通过磨粒 材料中局域源快速释放能量产生瞬态弹性波的现象称为声发射（Acoustic 声发射（局域源快速释放能 2021年10月7日 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性 弹性发射光学制造技术研究进展加工2021年9月18日 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特 性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹 李佳慧,侯溪,张云,王佳,钟显云 弹性发射光学制造技术研究 2006年5月22日 弹性发射加工是一种可以获得较高的加工精度和较低的表面粗糙度的超精密研磨方法。 其加工原理如图1 所示(图1 略)。 加工时使用聚氨脂球作加工头,在高速旋转的加工头与 超精密研磨抛光方法 bearing2018年10月28日 在超微亚表面缺陷光学元件基础上，增加了弹性发射抛光工序，实现超光滑表面原子级尺寸去除，得到表面粗糙度优于01nm的、超微亚表面损伤的、面形精度优于01λ的超 表面粗糙度优于01nm的高损伤阈值超光滑光学元件抛光技术
Ultraprecision Machining 超精密加工 光学元件超光滑表面
2022年5月23日 基于球体弹性发射加工方式设计流体驱 动抛光球，通过Fluent软件对抛光区流场仿真，分析了流体速度以及工件表面压力和剪切力分 布，从抛光间隙、工具球直径及主轴转 2016年8月12日 弹性发射加工是一种可以获得较高的加工精度和较低的表面粗糙度的超精密研磨方法。 其加工原理如图1所示。 加工时使用聚氨脂球作加工头，在高速旋转的加工头与被加工 超精密研磨抛光方法2021年2月22日 弹性发射 加工技术是一种去除函数稳定，超低亚表面缺陷，面向原子级的超光滑加工方法，可以作为加工上述精度要求光学元件 的手段。本文总结了弹性发射加工技术的国 弹性发射光学制造技术研究进展 百度文库弹性发射加工是基于流体动力润滑效应获取超光滑表面的一种重要方式，但是目前该方法在进一步改善粗糙度上遇到瓶颈，本文为了突破这一问题，对双转弹性发射加工技术进行系统研究，主 基于流体动力润滑效应的双转弹性发射加工技术研究学位万方 针对现有技术缺陷，本实用新型提供一种弹性发射抛光装置，该装置采用抛光柱自转和工件自转的方式，使弹性发射抛光的面积大，适用于大口径超光滑光学元件弹性发射抛光，消除点带式抛 一种弹性发射抛光装置的制作方法2022年5月23日 基于球体弹性发射加工方式设计流体驱 动抛光球，通过Fluent软件对抛光区流场仿真，分析了流体速度以及工件表面压力和剪切力分 布，从抛光间隙、工具球直径及主轴转速等3个参数探究其对工件表面所受最大压力和剪切力 的影响规律。Ultraprecision Machining 超精密加工 光学元件超光滑表面
原子级表面的先进抛光方法：综述,Materials Today
2024年5月20日 在这篇综述中，讨论了先进的抛光方法，例如化学机械抛光（CMP）、弹性发射加工（EEM）、离子束抛光（IBF）、磁流变抛光（MRF）、等离子辅助抛光（PAP）、超声波和光催化抛光、电化学抛光、气泡辅助抛光。2021年7月24日 弹性发射加工－EEM （Elastic Emission Machining ） 3 研磨的机理 由于工件、磨粒、研具和研磨液等的不同，上述三种研磨方法 的研磨表面状态也不同。表面的形成，是在产生切屑、研具的磨损 和磨粒破碎等综合在一起的复杂情况下进行的。 硬脆材料 第5章超精密研磨与抛光PPT课件百度文库2019年6月17日 技术，其中，弹性发射加工、磁流变抛光和化学机械 抛光等得到了良好的应用。这些抛光方法中弹性发 射加工[3]可以获得超光滑无损表面，但材料去除量 为原子级，效率极低；磁流变抛光[4]适用于各种复 杂曲面的抛光，但磁流变液价格昂贵，成本高内循环式非牛顿流体抛光单晶硅的仿真与试验研究2020年6月10日 难以通过单一加工方法加工满足各种加工质量指标要求的光学元件。光学平面研磨和抛光 超 精密磨削 的范围很广，主要包括机械磨削、弹性发射 加工、浮动磨削等加工方法。光学平面磨削技术通常是指利用硬度高于待加工材料的微米级磨粒 光学平面研磨抛光加工简介 知乎借鉴弹性发射加工的去除原理,本文提出了一种新的超光滑表面加工方法——纳米颗粒胶体射流抛光方法。纳米颗粒胶体射流抛光方法将界面化学、流体动力学理论与光学加工方法相结合,提供了一种可以实现原子级去处的加工方法。纳米颗粒胶体射流抛光机理及试验研究 百度学术2021年10月17日 流体动压抛光基于流体剪切效应可实现非接触微去除，可获得粗糙度1 nm以下的超光滑表面，在先进光学及微电子材料加工领域有很好应用前景。基于球体弹性发射加工方式设计流体驱动抛光球，通过Fluent软件对抛光区流场仿真，分析了流体速度以及工件表面压力和剪切力分布，从抛光间隙、工具球 光学元件超光滑表面的流体动压抛光特性研究
超精密抛光技术上海脉诺金属表面处理技术有限公司
2023年3月27日 软质磨粒机械抛光 (弹性发射加工)。加工原理实质是磨粒原子的扩散作用和加速的微小粒子弹性射击的机械作用的综合效果。 6 化学机械抛光。化学机械抛光是一种利用研磨液的腐蚀作用和磨粒的机械作用双重作用的研磨方法。除 CMP 技术外，经典的超精密研磨抛光方 法还有以下几种。 (1)弹性发射加工(Elastic emission machine ，EEM)。 日本大阪大学 TSUWA 等研究了在工件表面,以 原子级去除材料的可行性，建立了弹性发 射加工理论，其加工原理和生产设备分别 如图所示。超精密加工之气囊抛光百度文库用于弹性发射中抛光压力的控制装置及抛光压力确定方法 CN61, [3] 李梦凡, 胡小川, 赵远程, 侯溪 一种光学元件表面缺陷高精度检测装置 CN59, [4] 赵远程, 胡小川, 李梦凡, 侯溪侯溪中国科学院大学UCAS本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展,归纳了弹性发射加工技术的原理,包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性,弹性发射加工装备,影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素,分析了弹性发射加工技术面临的问题,展望了ScienceChina 中国科学文献服务系统2021年12月30日 本文充分调研了弹性发射加工技术及装备的国内外研究现状并展望了未来的可能发展方向。2 弹性发射加工技术材料去除机理 弹性发射加工技术(Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光滑抛光弹性发射光学制造技术研究进展 Powered by Discuz!2014年11月29日 深圳海德精机是一家集平面研磨机、平面抛光机、单双面研磨机为一体的生产厂家,24小时服务热线： 211、弹性发射 加工 弹性发射加工是一种可以获得较高的加工精度和较低的表面粗糙度的超精密研 磨方法。其加工原理如图1所示(图1 几种超精密研磨抛光方法的加工原理、特点、加
复合超声振动游离磨料抛光技术及其实验研究 豆丁网
2014年6月25日 粗糙度Ra012nm。弹性发射抛光由于弹性发射抛光法加工范围有 限，去除量很低。工件的去除速率与磨料驻留实践呈线性关系，材料 允许的总去除厚度小于20nm。浴法抛光能获得高精度的表面，工件 的热变形和抛光模的热塑性流动都非常小。低压磨料水射流2022年10月31日 任务 32 基于弹性发射抛光技术的单晶硅超光滑表面抛光工艺控制 目标：在已有的流体动压弹性发射抛光装备上，配置专用的抛光液体系，揭示抛光间隙、转动速度、抛光液成分对单晶硅弹性发射抛光效率及表面质量的影响规律，初步获取单晶硅超光滑表面抛光工艺。新工科毕业设计项目指导教师及学生申报通知（原子及近原子 2021年3月28日 基于超声研磨的超精密加工爱学术 ixueshu其中弹性发射加工（EEM）由于兼有研磨和抛光的特点而最具有发展前途。 但这些加工方法对加工设备和条件都有特殊的要求，在影响加工精度、表面质量的各种因素中，有的因素较难控制，对加工对象也有较多的限制，因而在工程应用中，往往受到制约，达不 eem弹性发射抛光2021年11月12日 文章编号 0951531（01）05108915弹性发射光学制造技术研究进展李佳慧1，侯 溪1 *，张 云1，王 佳1，钟显云1（1 中国科学院光电技术研究所，四川 成都 61009； 中国科学院大学，北京 ）摘要：深紫外光刻、极紫外光刻和先进光源等现代光学工程需求牵引先进光学制造技术持续发展，要求超光滑 弹性发射光学制造技术研究进展 道客巴巴2019年6月2日 0 引言 为解决机械抛光和化学机械抛光过程中磨粒与工件表面刚性接触，造成抛光表面产生细微划痕以及损伤层的难题，国内外学者提出了弹性发射抛光、浮法抛光、动压浮离抛光等非接触抛光加工方法，有效改善了传统抛光加工的刚性接触状态，将磨粒与工件的接触转变为准接触或者非接触 [1]。液动压悬浮抛光流场的数值模拟及抛光工具盘结构优化2021年2月22日 性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素， 分析了弹性发射加工技术面临的问题，展望了未来的发展方向，期望为弹性发射加工技术进一步发展和应用提供一定的 参考。弹性发射光学制造技术研究进展 百度文库
线性液动压抛光加工的流体动压特性研究 道客巴巴
2020年6月30日 第31卷第8期中国机械工程Vol．31 No．82020年4月CHINAMECHANICALENGINEERINGpp．907G914线性液动压抛光加工的流体动压特性研究郑子军 薛凯元 文东辉 徐耀耀 应富强浙江工业大学机械工程学院杭州摘要:基于流体动压润滑原理提出了线性液动压抛光加工方法借助计算流体力学数值模拟研究了抛光辊子结构和 2025年2月19日 弹性发射加工是可以得到很高的加工精度和低表面粗糙度的超精密加工方法。EEM加工原理如图1 其中弹性发射加工(EEM)由于兼有研磨和抛光 的特点而最具有发展前途。但这些加工方法对加工设备和条件都有特殊的要求，在影响加工精度、表面质量的各种 基于超声研磨的超精密加工 学习园地 优胜UG模具培训 2022年5月11日 新，磁流变抛光、气囊加工、弹性发射加工、等离 子体加工等先进光学制造技术应运而生。等离子体加工技术作为一种非接触式的化学 加工方法，是多学科交叉出现的新型光学加工技 术，与应力盘、小磨头等传统加工技术相比：等离等离子体光学加工关键技术研究现状2021年1月22日 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素，分析了弹性发射加工技术面临的弹性发射光学制造技术研究进展弹性发射抛光 工作原理 抛光轮与工件表面形成 小间隙，中间置抛光液， 靠抛光轮高速回转造成 微粉(磨粒) 磨料的“弹性发射”进 行加工。 抛光轮： 由聚氨基甲酸（乙）酯 制 成 ， 磨 料 直 径 01 ～ 001μm 加压 抛光轮 悬浮液 小间隙 工件 图 弹性发射加工原理第7章超精密研磨与抛光百度文库2010年1月21日 132数控非球面柔性制造技术 数控加工设备的应用实现了非球面的快速成型、粗磨。CCSL、浅低温抛光、弹性发射加工抛光ElasticEmissionMachining简称EEM、磁流变。广州市久锐化工科技有限公司 主要有弹性发射加工EEM、浮动研磨、磁力研磨等。弹性发射加工eem设备
一文读懂光学镜片抛光工艺（建议收藏） 知乎
2023年12月13日 基于光学镜片的研磨抛光的精密需求，目前又发展出了新的加工技术，如 数控研磨和抛光技术、应力盘抛光技术、超光滑表面加工技术、延展性磨削加工、弹性发射抛光法、激光抛光、震动抛光等等新技术，这些新的加工技术，需要边检测、边修正，不仅加工精度2025年4月2日 磁流变抛光技术研究进展 孙洹（图书馆） 引言 现代科学技术的发展对应用于各种光学系统中的光学元件提出了越来越高的要求。通常情况下，要求最终生产的光学元件具有高的面形精度、好的表面质量及尽量减少亚表面破坏层。磁流变抛光技术研究进展西安工业大学图书馆 XATU2014年8月13日 日本和韩国对弹性发射加工技术进行了一些研究,但其研究范围主要集中在 弹性发 射加工的工艺上,对弹性发射加工中抛光区的固液两相流中磨粒运动的研究 甚少,韩国大连理工大学硕士学位论文 虽然对弹性发射加工中磨粒的运动进行了理论研究,但并没有考虑多 的弹性发射加工中磨粒群运动特性的研究（可编辑） 豆丁网2010年11月22日 超精密研磨抛光方法上海市静安区职工大学荣烈润摘摘要：要：介绍了几种近代超精密研磨抛光方法的加工原理、特点、加工对象和应用。关键词：关键词：超精密研磨；弹性发射加工；机械化学研磨；磁力研磨；超声研磨1概述超精密加工技术标志着一个国家机械制造业的水平，在提高光机电产品 超精密研磨抛光方法 道客巴巴2022年5月23日 基于球体弹性发射加工方式设计流体驱 动抛光球，通过Fluent软件对抛光区流场仿真，分析了流体速度以及工件表面压力和剪切力分 布，从抛光间隙、工具球直径及主轴转速等3个参数探究其对工件表面所受最大压力和剪切力 的影响规律。Ultraprecision Machining 超精密加工 光学元件超光滑表面 2024年5月20日 在这篇综述中，讨论了先进的抛光方法，例如化学机械抛光（CMP）、弹性发射加工（EEM）、离子束抛光（IBF）、磁流变抛光（MRF）、等离子辅助抛光（PAP）、超声波和光催化抛光、电化学抛光、气泡辅助抛光。原子级表面的先进抛光方法：综述,Materials Today
第5章超精密研磨与抛光PPT课件百度文库
2021年7月24日 弹性发射加工－EEM （Elastic Emission Machining ） 3 研磨的机理 由于工件、磨粒、研具和研磨液等的不同，上述三种研磨方法 的研磨表面状态也不同。表面的形成，是在产生切屑、研具的磨损 和磨粒破碎等综合在一起的复杂情况下进行的。 硬脆材料 2019年6月17日 技术，其中，弹性发射加工、磁流变抛光和化学机械 抛光等得到了良好的应用。这些抛光方法中弹性发 射加工[3]可以获得超光滑无损表面，但材料去除量 为原子级，效率极低；磁流变抛光[4]适用于各种复 杂曲面的抛光，但磁流变液价格昂贵，成本高内循环式非牛顿流体抛光单晶硅的仿真与试验研究2020年6月10日 难以通过单一加工方法加工满足各种加工质量指标要求的光学元件。光学平面研磨和抛光 超 精密磨削 的范围很广，主要包括机械磨削、弹性发射 加工、浮动磨削等加工方法。光学平面磨削技术通常是指利用硬度高于待加工材料的微米级磨粒 光学平面研磨抛光加工简介 知乎借鉴弹性发射加工的去除原理,本文提出了一种新的超光滑表面加工方法——纳米颗粒胶体射流抛光方法。纳米颗粒胶体射流抛光方法将界面化学、流体动力学理论与光学加工方法相结合,提供了一种可以实现原子级去处的加工方法。纳米颗粒胶体射流抛光机理及试验研究 百度学术2021年10月17日 流体动压抛光基于流体剪切效应可实现非接触微去除，可获得粗糙度1 nm以下的超光滑表面，在先进光学及微电子材料加工领域有很好应用前景。基于球体弹性发射加工方式设计流体驱动抛光球，通过Fluent软件对抛光区流场仿真，分析了流体速度以及工件表面压力和剪切力分布，从抛光间隙、工具球 光学元件超光滑表面的流体动压抛光特性研究2023年3月27日 软质磨粒机械抛光 (弹性发射加工)。加工原理实质是磨粒原子的扩散作用和加速的微小粒子弹性射击的机械作用的综合效果。 6 化学机械抛光。化学机械抛光是一种利用研磨液的腐蚀作用和磨粒的机械作用双重作用的研磨方法。超精密抛光技术上海脉诺金属表面处理技术有限公司
超精密加工之气囊抛光百度文库
除 CMP 技术外，经典的超精密研磨抛光方 法还有以下几种。 (1)弹性发射加工(Elastic emission machine ，EEM)。 日本大阪大学 TSUWA 等研究了在工件表面,以 原子级去除材料的可行性，建立了弹性发 射加工理论，其加工原理和生产设备分别 如图所示。用于弹性发射中抛光压力的控制装置及抛光压力确定方法 CN61, [3] 李梦凡, 胡小川, 赵远程, 侯溪 一种光学元件表面缺陷高精度检测装置 CN59, [4] 赵远程, 胡小川, 李梦凡, 侯溪侯溪中国科学院大学UCAS